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電子行業(yè)如電鍍、線路板等的廢水的成分十分復(fù)雜,除含氰(CN-)廢水和酸堿廢水外,重金屬?gòu)U水是電鍍業(yè)潛在危害性極大的廢水類別。依據(jù)重金屬?gòu)U水中所含重金屬元素實(shí)行分類,通常能夠分為含鉻(Cr)廢水、含鎳(Ni)廢水、含鎘(Cd)廢水、含銅(Cu)廢水、含鋅(Zn)廢水、含金(Au)廢水、含銀(Ag)廢水等。簡(jiǎn)介幾種電子工業(yè)廢水處理。 

一、反彩管廢水回收系統(tǒng) 

該系統(tǒng)由二階段組成，即原水預(yù)處置階段，處置水量195m3/h；反浸透階段：處置水量2x65m3/h。其流程表示圖見圖1。

預(yù)處置階段

原水預(yù)處置的目的是使進(jìn)入RO安裝前的水質(zhì)到達(dá)RO進(jìn)水規(guī)范，延長(zhǎng)RO膜的運(yùn)用壽命，保證RO安裝長(zhǎng)期、穩(wěn)定的運(yùn)轉(zhuǎn)。

預(yù)處置系統(tǒng)由原水地、增壓泵、反洗濾器、絮凝、機(jī)械濾器、復(fù)原劑投加、活性炭濾器、反洗泵組成。預(yù)處置工序包括殺菌，絮凝過濾，吸附，pH調(diào)理，阻垢等，都是為最大限度地避免和延緩RO膜的堵塞，避免膠體物質(zhì)及總懸浮固體微粒污染物梗塞有機(jī)物、微生物、氧化性物質(zhì)等對(duì)膜的氧化毀壞，減緩RO膜的水解過程，從而使RO系統(tǒng)在良好狀下工作。

反浸透階段 

RO階段是由32根RO組件，按10:6的方式列，共2套，分別用一個(gè)高壓泵供水，RO產(chǎn)水每65mm3/h。產(chǎn)水經(jīng)管道保送到彩管消費(fèi)制水線，作消費(fèi)線的原水使廢水得以回用。運(yùn)轉(zhuǎn)結(jié)果本項(xiàng)目于2004年5月投入運(yùn)轉(zhuǎn)。經(jīng)檢測(cè)，各項(xiàng)標(biāo)均超越設(shè)計(jì)請(qǐng)求:脫鹽率97.3%;水回收率:70%;產(chǎn)水量:2x65m3/h。各項(xiàng)指標(biāo)的剖析和檢測(cè)結(jié)示于表1。 

RO膜面污染及膜面清洗處置

雖然本系統(tǒng)的預(yù)處置系統(tǒng)裝備較為完善，但經(jīng)較長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)，RO膜面仍難免呈現(xiàn)污染物的堆積，使系統(tǒng)產(chǎn)水量不時(shí)降低。這是任何RO安裝應(yīng)用中普遍呈現(xiàn)的現(xiàn)象。對(duì)此，我們采用一種比擬有效、簡(jiǎn)單易行的膜清洗方法:在工藝流程裝備RO膜清洗循環(huán)系統(tǒng)(見圖1);清洗時(shí)，按1%磷酸鈉、1%三聚磷酸鈉、1%EDTA一四鈉和0.2%NaOH，配制清洗液;對(duì)系統(tǒng)實(shí)行循環(huán)清洗。最后用RO產(chǎn)水循環(huán)沖洗。清洗結(jié)果標(biāo)明RO系統(tǒng)產(chǎn)水可接近于初始產(chǎn)量。

彩色顯象管制備排出的廢水經(jīng)RO系統(tǒng)處置后，脫鹽率達(dá)97.3%，產(chǎn)水量2x65m3/h，契合彩管生產(chǎn)線純水供給的設(shè)計(jì)請(qǐng)求，制水耗電0.85kwh/m3產(chǎn)水，標(biāo)明RO在該范疇的應(yīng)用在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上是可行的。

完善的預(yù)處置系統(tǒng)，是RO系統(tǒng)良好運(yùn)轉(zhuǎn)的保證。本系統(tǒng)采用的殺菌、絮凝、吸附、過濾、pH調(diào)理、阻垢及還原等預(yù)處置環(huán)節(jié)，在系統(tǒng)一年多的平安、牢靠運(yùn)轉(zhuǎn)中，維持了各項(xiàng)指標(biāo)的穩(wěn)定。

經(jīng)過較長(zhǎng)時(shí)間的運(yùn)轉(zhuǎn)，系統(tǒng)產(chǎn)水量有一定程度的降低，它能夠經(jīng)過RO膜清洗辦法處理。本系統(tǒng)采用的配制專用清洗液及簡(jiǎn)易、有效辦法可使產(chǎn)水量恢復(fù)到接近初始產(chǎn)水量程度。

二、印制線路板生產(chǎn)廢水的處置 

清洗廢水 

清洗廢水來源于磨板、水洗、電鍍、洗缸等程序，占總水量的80%以上，清洗廢水總體呈酸性，其污染物濃度相對(duì)較低，通常pH為2-5，COD在100mg/L以下，銅離子質(zhì)量濃度在100mg/L以下。

清洗廢水流入調(diào)理池調(diào)理水質(zhì)水量后，由提升泵泵入中和池，添加堿液調(diào)理pH，再流入混凝池及助凝池。添加混凝劑和助凝劑后，廢水中的重金屬離子以及一些膠體類有機(jī)物構(gòu)成絮狀體，流入沉淀池實(shí)行泥水分離。然后，污泥排入物化污泥池，沉淀池的出水流入中和池調(diào)理pH后經(jīng)砂濾池和活性碳池后流入回用水池。

  高濃有機(jī)廢水 

高濃有機(jī)廢水來自于各除膠、除油、顯影、脫膜、綠油工序等，其COD濃度很高通常達(dá)3000-8000mg/L，是一種污染較嚴(yán)重的廢水，此類廢水單獨(dú)搜集后，經(jīng)隔油沉渣池除去浮油等渣滓后，進(jìn)入調(diào)理池調(diào)整水質(zhì)水量，再由廢水泵打入酸析池，由pH在線儀控制投加酸液，在酸性條件下，廢水中的有機(jī)物析出浮于水面，定時(shí)清理。酸析后加堿調(diào)理pH，然后加入混凝劑，反響后再用氣動(dòng)隔膜泵打入廂式壓濾機(jī)實(shí)行渣水分離。此時(shí)，廢水中的油墨和懸浮物截留于廂式壓濾機(jī)內(nèi)，濾液排出，做進(jìn)一步處置。

   絡(luò)合銅廢水 

絡(luò)合銅廢水來自蝕刻、沉銅、沉銀等工序，約占印制線路板制備廢水總水量的8%左右。廢水中含有高濃度的絡(luò)合銅、檸檬酸等。絡(luò)合廢水須先廢除絡(luò)合物(銅鰲合物)才干將銅沉淀去除。

絡(luò)合物的穩(wěn)定性與溶液的pH有關(guān)。在pH為2.9-12時(shí)絡(luò)合銅離子比Cu(OH)2穩(wěn)定，無法經(jīng)過調(diào)整pH產(chǎn)生Cu(OH)2沉淀的辦法將銅離子去除。但CuS比有機(jī)絡(luò)合銅離子更為穩(wěn)定，經(jīng)過投加Na2S能夠產(chǎn)生CuS沉淀，從而毀壞絡(luò)合銅離子的均衡，到達(dá)去除銅離子的目的。最后投加高分助凝劑實(shí)行泥水別離。但要使絡(luò)合物中的銅全都沉淀下來，必需加入過量的硫化鈉。如何控制硫化鈉是個(gè)十分關(guān)鍵的要素。一方面硫離子對(duì)后面的生化處置中微生物的培育有一定的毒害作用，另一方面，硫離子也是出水的控制指標(biāo)之一。因而過量的Na2S需加入FeSO4來去除。

經(jīng)破絡(luò)反響沉淀后的絡(luò)合廢水與經(jīng)預(yù)處置的高濃有機(jī)廢水一同進(jìn)入后續(xù)工序處置。  

三、電鍍廢水及其處置工藝 

電鍍廢水的成分十分復(fù)雜，不同企業(yè)，其電鍍液配方、產(chǎn)品及其他消費(fèi)原料均有區(qū)別，使得排放的廢水水質(zhì)不盡相同，但是，就普通電鍍企業(yè)而言，其排放的生產(chǎn)廢水水質(zhì)大致相同。

電鍍廢水中主要污染物有銅、鎳、鋅等金屬及其絡(luò)合物、F-、SS、酸、堿、有機(jī)物等，部分電鍍企業(yè)廢水中還含有Cr6+、CN-等危害性極大的污染物。電鍍企業(yè)除了正常的生產(chǎn)制造廢水外，還有少量高濃度廢液或母液要求處置，其污染物的成分與生產(chǎn)廢水相似。

綜合剖析電鍍企業(yè)廢水、廢液的水質(zhì)及排放狀況，電鍍工業(yè)廢水處理通常按同類匯合、分類搜集、分別處置的方法實(shí)行處理，分類明細(xì)見表1。

依據(jù)表1中的分類，下面分別闡述各類廢水的常用處理工藝。 

1、絡(luò)合廢水 

絡(luò)合廢水中主要污染物為銅離子的絡(luò)合物，如Cu2+與NH4OH、EDTA等構(gòu)成穩(wěn)定的絡(luò)合銅，通常靠加入酸堿中和的辦法不能去除。對(duì)絡(luò)合廢水的處置首先要?dú)慕j(luò)合物，采用溶度積比絡(luò)合物穩(wěn)定常數(shù)更小的沉淀劑，使其與金屬離子構(gòu)成更穩(wěn)定的沉淀物，從廢水中分離出來，到達(dá)去除的目的。

常用破絡(luò)的化學(xué)藥劑有Fe鹽、Na2S等，由于S2-屬于排放規(guī)范中嚴(yán)厲控制的污染物，因而Na2S只能作為輔助的破絡(luò)劑，嚴(yán)厲控制其投加量。常用絡(luò)合廢水處置工藝見圖1。 

 2、含氟廢水

 電鍍企業(yè)Pb-Sn廢水中含有大量的氟硼酸根（BF4-）、Pb2+和Sn2+，其中Pb2+和Sn2+，經(jīng)過投加堿液，調(diào)理pH值生成沉淀物去除，氟硼酸根構(gòu)成氟化物沉淀去除。常用含氟水處置工藝見圖2。

3、含氰廢水

 含氰廢液通常都回收處置，只要清洗廢水中含有少量氰（CN-），常用堿性氯化法破氰（絡(luò)合氰）。常用含氰廢水處置工藝見圖3。

4、含鉻廢水

含鉻廢水中，鉻主要以Cr6+的方式存在，在酸性的條件下，加入還原劑將Cr6+還原成Cr3+，然后調(diào)整pH至堿性，生成氫氧化鉻沉淀去除，常用的還原劑有亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、硫酸亞鐵等。

常用含鉻廢水處置工藝見圖4。

5、高濃度有機(jī)廢水 

 化學(xué)清洗、顯影、脫膜等工序排放的廢水中COD含量很高，可能到達(dá)10~20g/，顯影和脫膜廢水呈堿性，pH≥13，通常呈現(xiàn)藍(lán)色，該類型的高濃度有機(jī)廢水通常采用酸析法處置。

在酸性條件下，廢水中的感光膜、清洗劑會(huì)析出，構(gòu)成濃膠狀聚合物，經(jīng)固液別離去除，再把pH調(diào)節(jié)至弱堿性，投加混凝劑，經(jīng)沉淀進(jìn)一步降低廢水的COD值。 

常用高濃度有機(jī)廢水處置工藝見圖5。

6、廢液或母液 

 通常電鍍企業(yè)產(chǎn)生的廢液，約占總廢水量的0.5%左右。廢液中大多數(shù)具有回收應(yīng)用價(jià)值，例如濃酸、濃堿可用于調(diào)整廢水處置中廢水的pH值，降低運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用，其他廢液及預(yù)處置產(chǎn)生的污泥，由專業(yè)公司回收再應(yīng)用。

7、低濃度清洗廢水

低濃度清洗廢水通常占總水量的85%左右，因而，該種類廢水是電鍍廢水處置的主體，其他品種廢水經(jīng)預(yù)處理后，與低濃度清洗廢水混合再處置，達(dá)標(biāo)排放出廠或回用。

常用混合廢水處置工藝見圖6。

設(shè)置離子交換工段主要是考量到電鍍藥劑配方復(fù)雜且機(jī)密，絡(luò)合劑和外表活性劑對(duì)氫氧化銅的沉淀有影響，增加離子交換柱，可進(jìn)一步去除廢水中的銅離子，特別是絡(luò)合銅離子，確保排放水質(zhì)達(dá)標(biāo)。

8、廢水處置工藝的自動(dòng)化 

自動(dòng)控制在電鍍廢水處置中起著重要作用，電鍍廢水處置操作工序復(fù)雜、添加藥品眾多，采用自動(dòng)化控制程序，能夠防止一些人為的不利要素、能夠精確控制投加的藥劑量而不形成糜費(fèi)、能夠減少操作人員儉省運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用，因而，電鍍廢水處置應(yīng)盡可能的采用自動(dòng)化程序控制，確保整個(gè)處置工藝流程正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

電鍍廢水成分復(fù)雜，不同電鍍企業(yè)其產(chǎn)生的廢水水質(zhì)均有差別，因而，在實(shí)行電鍍廢水處置設(shè)計(jì)時(shí)，應(yīng)細(xì)致分析廢水水質(zhì)，有條件的狀況下，可先實(shí)行小試或中試，確保采用的處置工藝可行、牢靠。